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【备 注】：
TG2U型光刻机主要技术参数见下表：
项目 |
参数
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适用的掩模尺寸
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a.100X100X2－3mm；b.75X75X2—3mm；c.63X63X2—3(选购)；
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适用的硅片尺寸
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φ35—75mm
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光刻图形线条
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3-4μm, 最细可达2μm
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掩模与硅片之间的相对位移范围
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X/Y±2.5mm,(族转) ±6°
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承片台(硅片)绕主轴旋转
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粗调360度,可微调
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承片工作台综合移动范围
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X,Y合成φ75mm
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承片台的球座平面至掩模板面升降
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0—7.5mm
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曝光灯源
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GCQ200W超高压汞灯，曝光波长，300―436nm
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曝光系统能量不低于
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7mw
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曝光系统的照度均匀度在φ75mm范围内
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±5％
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显微镜的照明波长
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≈545nm
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曝光时间控制范围
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0.1秒—99分
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双目显微镜的放大倍数
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a.目镜共二种:10X,16X；b.平视场物镜共三种:6X,9X,15X；c.合成放大倍率:60X—240X；
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真空接触压力
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≥0.7kgf
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装箱尺寸
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1000X850X980mm(2只)
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装箱重量
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200kg
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注：用户有何特殊要求可协商。
注意：如果产品升级恕不另行通知，网站及资料会同步升级，并以实物为准！
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