详细介绍
特点:
1、适用于半导体集成电路生产过程(后道封装)中片式元器件贴装,实现点胶、沾胶、粘片、贴片、晶圆粘片、倒封装、GaAs,粘片压力可控,精度高。
2、采用精密磁悬浮运动平台,主系统X、Y轴采用带有高解析度直线编码器的无接触无摩擦磁悬浮系统。编码器刻度达0.02μm精度,可实现高速、精密、亚微米级的定位。
3、平台的设计采用高稳定的花岗岩一体化高速运动平台,使T8W在保证热稳定和机械稳定的同时,实现高速启动时间和+/-0.5μm乃至更好的贴片精度,从而满足高精密的应用要求。
设备优势:
4、具备独立的点胶控制软件进行胶水形状和路径的任意设置,可以实现点、线、平面、非平面、弧形、圆形等任意形状的点胶。同时配置独立的点胶控制器。点胶控制器有独立的算法,胶水多的时候,气体压力会根据算法自动加大。胶水少的时候,气体压力会根据算法自动降低压力。实现胶水点胶的一致性。
5、图像识别系统包括两组独立的识别系统。顶部系统配置德国原装工业相机,实现电路板MARK点、焊盘的识别,底部系统配置德国原装工业相机,配置6种以上的图像识别算法,可以实现相关原材料包括管脚、异形件、小型基板等精密识别。
6、贴片机具备自动校准功能,在使用时可以根据要求设置多少次运动之后自动进行X Y轴运动精度的校准,也可以在发现设备定位不准确时,通过三维自动校准进行运动轴的校准。同时通过底部图像识别系统,进行点胶机点胶针头和吸嘴的自动校准。
7、旋转角度:设备具备360度旋转功能,旋转分辨精度为0.01度,可以实现组装过程中任意角度的芯片贴装。
8、设备配置两组点胶机,通过软件可以选择用点胶1或2,或者点胶1 /2 同时工作。可以同时使用两种粘结剂,也可以同时使用两种不同直径的针头来点胶。
1.可自由配置的工作区域
顶装构架式设计提供了大工作空间。系统可以从华夫盘,晶圆喂料器和带式喂料器等喂料方式的任意组合取料。晶圆取料时,系统采用马达驱动的、压力受控的升降机构拾取薄芯片和大纵横比的芯片,并可进行精密补偿。墨点识别及晶圆测绘功能保证只拾取已知的好的芯片。700 平方英寸的工作区域可轻易容下多种送料及出料方式的组合。
2.适用于装配的压力控制
T8WS配有闭环压力反馈功能,使之可以非常好地处理砷化镓(GaAs)和磷化铟(InP)器件以及诸如MEMS这样的易碎器件。芯片贴放力可低至100克,因此像空气桥这样的易碎微观结构不会被破坏。每次贴放的压力均通过编程控制,因此每个芯片的拾取和贴放都是在编程控制的压力下进行的,来帮助保证锡膏或胶层厚度的一致性。
3.物料输送
T8WS既符合专门的大批量生产的要求,又具有足够的灵活性适应小批量生产。其既可配置为单机生产,采用料盒至料盒式材料输送方式,也可与其他加工设备进行连线。
4.先进的图像定位和视觉系统
先进的视觉系统可在360°范围内进行的芯片的快速探测和定位,并具有强大的基片基点校准能力。这令诸如MMICs和梁式引线二极管等定向要求高的芯片的校准成为可能。视觉系统根据基片基点、芯片边缘或之前贴放的芯片特征点的相对位置校准并贴放芯片。这保证了光学和微波器件对位的重复精度及准确度。采用了边界识别或图形识别功能,以定位芯片中心、边缘或关键的应用特征。快速定位功能可以使诸如MMICs和激光器这样的芯片可无需经过任何预定位而直接上机加工。全局和局部视觉校准功能应用于嵌入式基片和特征码校准。使复杂组装的加工快速而准确。
T8WS视觉系统的顶部及底部相机都具有多个放大倍率,并配有可编程光源。T8WS采用一台底部相机进行倒装芯片及其它具有底部特征的零件的生产。
5.可编程的多色背景光照明
每台相机的环形光和同轴光的光强度编程可调,从而确定合适的光源以进行芯片对位和识别。多色背景光可用于处理范围宽广的各种材料。红-绿-蓝可编程光源(选配)为加工挑战性的校准表面(如氧化铝陶瓷上的金线)提供了更强的能力。强大的视觉系统保证生产不会因校准错漏而中断。
6.真空共晶焊功能
T8WS可选配真空共晶焊功能。T8WS支持多种共晶制程,包括金-硅、金-锡和金-锗。其具有的功能,包括可快速、闭环、加热升温的加热回流炉,共晶炉可编程,以符合您共晶工艺的要求,升温速率可编程控制,使零件的共晶可靠性更高,同时避免了热冲击。T8WS同时支持直接共晶和回流共晶,具备可控的接触压力和可编程的正压和负压调节功能。温度可达500°C以上。
预热系统可选配氮气保护和氢氮混合气体的保护,防止工件和基板氧化。系统自动地将基片或封装转移到真空共晶炉上,完成真空共晶功能。
除可封装诸如放大器这样的大功率器件之外,T8WS的这些特性还可应用于光学设备上的光学组件的大批量生产,如在基板上、TO管壳和蝶形封装等上面的共晶焊。
7.带激光测距的锡膏喷印和点胶功能
设备可配置用于点导电&绝缘环氧树脂用的精密点胶控制仪/精密锡膏喷印控制器,精密激光高度测距仪,以及点胶针头自动定位和清洁,确保高精密的点胶或区域填充。
通过高精度的激光高度检测,T8W实现了精密点胶功能。每次校准都通过激光检测几点的高度,确定每个点胶表面的坡度。
8.功能强大的控制系统和离线编程系统
T8WS基于Windows的直观的图形化用户界面简化了设置和生产工艺。软件系统含有一套为华夫盘及芯片预编程的程序库,其组件轻松易学且所有基片程序均可采用。XML格式的数据库可简化数据操作及离线编程。全新的视觉工具,如可调目标区域、加强的增益控制、滤波器和图形匹配等,可实现具有挑战性的基片和芯片材料的视觉化处理。CAD下载功能、先进的校准程序、根据进料盘的二维码自动调用程序的功能、材料追溯功能及可联网功能等,意味着几乎不用花时间在编程上,从而优化了生产效率和设备利用率。
T8W控制平台通过基于总线控制的运动系统及所有轴(包括传送带)的驱动器,实现了更加平滑、更加精密的控制。计算机硬件配置了前端USB接口以便于应用,具有备份功能双硬盘驱动器保证的数据安全及更短的停机时间和更快的数据恢复。
9.真正的交钥匙式工程
TORCH为封装提供一整套解决方案,包括高速精密贴片机、银浆点胶机、锡膏喷印机、环氧点胶机等一系列产品。SMEMA兼容接口使T8WS可与包括连线真空焊接炉在内的多种设备集成,从而形成一套交钥匙式的生产解决方案。TORCH高可靠性的系统及本地化的技术服务支持承诺,意味着您的设备将可一直满足生产需求。
10、其他功能及参数
1、贴片速度:1500UPH
2、倒装片贴装速度:800UPH
3、料盒或盘料供料:容纳多达20个2”x2”华夫盘或10个4”x4”料盒或组合料盘。
4、编带供料:8mm、12mm、16mm、24mm、32mm、44mm,可安装最多16个8mm喂料器。
5、晶圆供料:可支持最大8英寸晶圆,配有马达驱动Z轴顶针机械装置及固晶环等。
6、芯片尺寸:最小0.15-5mm,更换吸头
7、芯片厚度:0.05-2mm厚的芯片或焊片
8、真空共晶炉:最高可达500°C,真空度根据选配真空泵不同,在10-4pa-500pa之间。温度采用可编程温度控制器控温。
9、计算机采用工业级工控机,计算机CPU为i7处理器,主频不小于2.0GHz;内存不小于4G,硬盘不小于500G,带2个千兆网口。
10、数据采集卡为16位,16路,采样速率为250K;
11、设备带2个点胶机,通过点胶控制器,调整时间、压力、真空吸力、点胶均匀度算法一起配合完成高精密点胶。
12、设备带两组德国原装的basler工业上视相机。
13、设备的载物台能够摆放16组以上的华夫盘。
14、贴片机的观察窗材料为PC防静电耐火材料。
15、编程之后储存,使用的时候通过调用保存的程序就可实现自动化生产。
16、具有三维自动校准软件,能够对所编写的程序进行无数个版本的备份。
17、可以针对每个芯片设置独立的贴装压力,然后通过软件进行反馈控制贴装压力。
18、设备可以通过软件,对X轴、Y轴、Z轴、theta轴进行回零速度、自检速度、贴装速度、贴装压力等不同状态下运动速度的分别设定。
19、能够通过软件控制真空吸嘴的开关
20、设备采用模块设计方便维修,易损件、关键部件均提供1套备件。
21、整机具有防护装置,机器正常工作时人手无法伸入机器内部。机盖开启急停保护。
T8W详细参数:
参数类型 | T8WS(气浮式) |
X/Y轴行程 | 400*400mm |
编码器 | 0.2μm or 20μm fμndamental |
X/Y轴分辨率 | 0.11μm |
贴片速度 | 1500UPH |
倒装片贴装速度 | 800UPH |
定位精度 | +/-1μm |
重复定位精度 | +/-0.5μm |
直线度 | +/-1μm |
平面度 | +/-1μm |
贴装精度 | ±0.3μm真实径向定位(取决于应用) |
贴装重复精度 | ±0.3μm@3sigma |
最大速度 | 1000mm/s或40英寸/秒 |
最大加速度 | 2G |
Z轴贴放 | 根据压力或高度贴放 |
压力控制 | 通过实时反馈控制对每次贴放进行编程,压力范围1-40N |
Z轴行程和分辨度 | 15mm/0.1um |
R轴贴装重复精度 | 0.1°@3sigma |
贴片头R轴旋转角度 | ≥360° |
R轴精度分辨度 | 0.01° |
运动平台 | 高精密磁悬浮式实心花岗岩平台(气浮式) |
运动系统 | 采用进口运动控制卡和编码器 |
编带供料 | 8mm、12mm、16mm、24mm、32mm、44mm,可安装最多16个8mm喂料器。 |
芯片尺寸 | 最小0.05-5mm,更换吸嘴 |
芯片厚度 | 0.05-2mm厚的芯片或焊片 |
重量 | 1600kg |
外形体积 |
1730(L)×1400(W)×1480(H)(不含地脚高度) |
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