详细介绍
一、设备名称、型号、原产地、交货期
1.1 设备名称:真空等离子清洗机
1.2 型号:VPC42
1.3 原产地(国别、厂家):北京中科中科同志股份有限公司
1.4 交货期:合同生效后4-8周
1.5 主要用于硅晶圆、玻璃基板、陶瓷基板、IC载板、铜引线框架、大尺寸单面基板电源板、IGBT模块、带治具的MEMS传感器、微波器件、滤波器、射频器件等半导体封装领域的等离子表面处理工艺。
二、设备主要技术性能指标:
2.1 真空腔体体积:42L
2.2 真空度:VPC42真空等离子清洗机最高真空度小于2 Pa(机械干泵 40L/Min)
2.3 有效清洗面积:
单个承片台面积:350*350mm
15层:间隔15mm:40KHZ 2KW 中频(表面处理)
5层:间隔50mm,13.56MHZ 300W 射频(体积处理,带水冷)
2.4 真空腔室高度:
炉膛高度350mm(有效尺寸)
2.5 清洗温度:
低温清洗(低于室温)。
2.6 清洗节拍:30-120S
2.7 清洗效果:达因值可达到70.水滴角15度,最优可控制到10以内(百级无尘4小时以内)
2.8 气体环境:
氩气、氮气、氧气、氮氢混合气体、氢气、四氟化碳都支持。
2.9 VPC42真空等离子清洗机配置软件控制系统:
软件控制系统,操作简单,能接控制设备及设定各种清洗工艺曲线,并根据工艺不同进行设定、修改、存储、调用;软件自带分析功能,能对工艺曲线进行分析。软件控制系统自动的实时记录清洗工艺参数及温度曲线、时间、报警相关数据,保证产品清洗工艺的可追溯性。
2.10 设备无需校正,不会产生多余的校证费用
2.11 操作功耗:2.5KW,不含冷水机功耗(中频); 1.5KW,不含冷水机功耗(射频)
2.12 具有超温报警及记录功能。(标配)
VPC42型真空等离子清洗机具有清洗过程工件表面超温保护及报警功能、整机温度安全保护功能及记录功能。
2.13 具有氮气、氩气等流量管理及分析系统(软件+硬件)。(选配)
VPC42型真空等离子清洗机具有整机消耗氮气、氩气等工艺气体的实时管理及分析功能,可以实时分析气体使用量、日使用量、周使用量、时间段使用量等记录和分析功能。
2.14 具有工艺气体压力报警功能和分析系统(软件+硬件)。(选配)
VPC42型真空等离子清洗机具有整机生产过程中工艺气体气源欠压报警及记录和分析功能,对产品质量追溯超有用。
2.15 具有能源管理及分析系统(软件+硬件)。(选配)
VPC42型真空等离子清洗机具有能源消耗实时管理及分析功能,可以分析实时耗电量、日耗电量、周耗电量、时间段耗电量等记录和分析功能。
2.16 具有产量统计管理及分析系统(软件+硬件)。(选配)
VPC42型真空等离子清洗机具有整机真空处理产品产量实时管理及分析功能,可以实时班产量、日产量、周产量、月产量登并记录和分析,用于产品质量追溯和分析。
2.17 具有MES数据接口子系统(软件+硬件)。(选配)
VPC42型真空等离子清洗机具有整机MES数据接口功能,可以选配并配置MES系统,完成智能设备的各种数据采集及分析。
2.18 设备外形尺寸:
850*960*1680mm(不包括警灯)
2.19 设备内部结构:见下图
三、设备基本构成和配置:
四、VPC42技术参数表
1.1 设备名称:真空等离子清洗机
1.2 型号:VPC42
1.3 原产地(国别、厂家):北京中科中科同志股份有限公司
1.4 交货期:合同生效后4-8周
1.5 主要用于硅晶圆、玻璃基板、陶瓷基板、IC载板、铜引线框架、大尺寸单面基板电源板、IGBT模块、带治具的MEMS传感器、微波器件、滤波器、射频器件等半导体封装领域的等离子表面处理工艺。
二、设备主要技术性能指标:
2.1 真空腔体体积:42L
2.2 真空度:VPC42真空等离子清洗机最高真空度小于2 Pa(机械干泵 40L/Min)
2.3 有效清洗面积:
单个承片台面积:350*350mm
15层:间隔15mm:40KHZ 2KW 中频(表面处理)
5层:间隔50mm,13.56MHZ 300W 射频(体积处理,带水冷)
2.4 真空腔室高度:
炉膛高度350mm(有效尺寸)
2.5 清洗温度:
低温清洗(低于室温)。
2.6 清洗节拍:30-120S
2.7 清洗效果:达因值可达到70.水滴角15度,最优可控制到10以内(百级无尘4小时以内)
2.8 气体环境:
氩气、氮气、氧气、氮氢混合气体、氢气、四氟化碳都支持。
2.9 VPC42真空等离子清洗机配置软件控制系统:
软件控制系统,操作简单,能接控制设备及设定各种清洗工艺曲线,并根据工艺不同进行设定、修改、存储、调用;软件自带分析功能,能对工艺曲线进行分析。软件控制系统自动的实时记录清洗工艺参数及温度曲线、时间、报警相关数据,保证产品清洗工艺的可追溯性。
2.10 设备无需校正,不会产生多余的校证费用
2.11 操作功耗:2.5KW,不含冷水机功耗(中频); 1.5KW,不含冷水机功耗(射频)
2.12 具有超温报警及记录功能。(标配)
VPC42型真空等离子清洗机具有清洗过程工件表面超温保护及报警功能、整机温度安全保护功能及记录功能。
2.13 具有氮气、氩气等流量管理及分析系统(软件+硬件)。(选配)
VPC42型真空等离子清洗机具有整机消耗氮气、氩气等工艺气体的实时管理及分析功能,可以实时分析气体使用量、日使用量、周使用量、时间段使用量等记录和分析功能。
2.14 具有工艺气体压力报警功能和分析系统(软件+硬件)。(选配)
VPC42型真空等离子清洗机具有整机生产过程中工艺气体气源欠压报警及记录和分析功能,对产品质量追溯超有用。
2.15 具有能源管理及分析系统(软件+硬件)。(选配)
VPC42型真空等离子清洗机具有能源消耗实时管理及分析功能,可以分析实时耗电量、日耗电量、周耗电量、时间段耗电量等记录和分析功能。
2.16 具有产量统计管理及分析系统(软件+硬件)。(选配)
VPC42型真空等离子清洗机具有整机真空处理产品产量实时管理及分析功能,可以实时班产量、日产量、周产量、月产量登并记录和分析,用于产品质量追溯和分析。
2.17 具有MES数据接口子系统(软件+硬件)。(选配)
VPC42型真空等离子清洗机具有整机MES数据接口功能,可以选配并配置MES系统,完成智能设备的各种数据采集及分析。
2.18 设备外形尺寸:
850*960*1680mm(不包括警灯)
2.19 设备内部结构:见下图
三、设备基本构成和配置:
编号 | 名称 | 配置 | 数量 |
1 | 真空等离子清洗机 | 主机 | 1台 |
2 | 等离子体电源系统 | 标配 | 1套 |
3 | 测温系统 | 标配(2组测温热电偶,一用一备) | 1套 |
4 | 真空系统 | 标配 | 1套 |
5 | 机械泵 | 标配 | 1套 |
6 | 水冷系统 | 标配(不含工业水冷机) | 1套 |
7 | 工业冷水机 | 选配 | 1套 |
8 | 工艺气体系统 | 标配(工艺气路管道及接口) | 1套 |
9 | 氮气气氛保护系统 | 标配(不包括氮气气源供应) | 1套 |
10 | 真空等离子清洗机软件系统 | 标配(控制软件) | 1套 |
11 | 工业计算机 | 标配 | 1套 |
12 | 等离子体 | 标配 | 1支 |
13 | 测温传感器(备件) | 标配 | 2根 |
14 | 冷却气管(备件) | 标配 | 2根 |
15 | 工艺气体流量管理及分析系统 | 选配 | 1套 |
16 | 工艺气体压力报警功能和分析系统 | 选配 | 1套 |
17 | 能源管理及分析系统 | 选配 | 1套 |
18 | 氧含量管理及分析系统 | 选配 | 1套 |
19 | MES数据接口系统 | 选配 |
四、VPC42技术参数表
品 牌 | 设备厂商 | 北京中科中科同志股份有限公司 TORCH | 备注 |
简 介 | 产 地 | 北 京 | |
关键配件 | 温度传感器 | 美国欧米伽 | |
真空泵 | 科仪/鲍丝 | ||
截止阀 | 日本进口 | ||
耐蚀阀 | 日本进口 | ||
低压电器 | 法国施耐德 | ||
按钮开关 | 台湾久晨/法国施耐德 | ||
磁性接近传感器 | 日本欧姆龙 | ||
加热器 | TORCH | ||
关键技术指标 | 温度参数 | 低温清洗,保持在室温清洗 | |
最低真空度 | 5pa | ||
氧含量 | <1ppm | ||
生产效率 | 20-120S | ||
工艺关键指标 | 质量追溯 | 1、工艺气体压力报警记录。2、氧含量报警记录。3、温度超温报警记录。4、真空值不达标报警记录 | |
设备智能化信息化 | 1、设备具备智能化功能,以上四项指标有一项不达标或者报警,设备就整体报警,并提示停止生产。确保产品的生产质量。2、设备具备能源管理系统,耗电量和消耗氮气的量,在能源管理系统实时统计并显示。3、以上所有信息都可以通过设备数据接口无缝对接MES系统,方便管理人员决策管理。 | ||
厂务条件 | 电 | 380VAC,20A | |
气 | 压缩空气(CDA)0.5Mpa | ||
氮气 | 0.5Mpa | ||
真空 | 设备配置真干泵 |
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